专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]消色谱效应的超高真空腔对高压气体采样装置-CN201610140435.5有效
  • 杨永 - 上海科技大学
  • 2016-03-11 - 2017-11-07 - H01J49/04
  • 本发明提供了一种消色谱效应的超高真空腔对高压气体采样装置,其特征在于,包括用于在高压环境下采样的独立安装的不锈钢毛细管、独立的微分泵组及与超高真空腔直接相连的真空泵组,微分泵组及真空泵组具有完全隔断独立的抽气通道,微分泵组及真空泵组通过各自的抽气通道将气体自不锈钢毛细管抽出,被抽出不锈钢毛细管的气体一部分流入超高真空腔,另一部分流入微分泵组,由针阀或高精度流量阀调制输入超高真空腔与输入微分泵组的气体流量的配比。本发明以较低的成本,满足了通过超高真空设备在大范围不同气压环境中采样的要求,并能够保持真空保护的工作测试设备有恒定的气压工作环境
  • 色谱效应超高空腔高压气体采样装置
  • [发明专利]激光刻面的钝化及用于执行激光刻面的钝化的系统-CN201780024675.1有效
  • 张强;H·安;H·G·特罗伊施 - 通快光子学公司
  • 2017-04-18 - 2021-07-02 - H01S5/028
  • 使多层波导结构的至少一个刻面钝化的方法,所述方法包括:在多腔式超高真空(UHV)系统的第一腔内清洁所述多层波导结构的第一刻面;使经清洁的多层波导结构从所述第一腔转移至多腔式超高真空系统的第二腔;在第二腔内于第一刻面上形成第一单晶钝化层;使多层波导结构从所述第二腔转移至多腔式超高真空系统的第三腔;并且在第三腔内于第一单晶钝化层上形成第一介电涂层;其中,所述方法在所述多腔式超高真空系统的超高真空环境中执行而没有使多层波导结构从超高真空环境移出
  • 激光钝化用于执行系统
  • [发明专利]一种超高真空二维材料制备系统及制备方法-CN202111366454.7在审
  • 王文杰 - 仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司
  • 2021-11-18 - 2022-02-18 - B82B3/00
  • 本发明提供一种超高真空二维材料制备系统及制备方法,旨在解决现有的用机械剥离法制备二维材料的方式一般都在大气环境下进行,大气下的氧气很容易将二维材料氧化,进而改变所制备的二维材料的性质,无法获得准确二维材料观测和检测数据的问题,超高真空二维材料制备系统包括系统支架,所述系统支架上通过固定架安装有超高真空腔体,超高真空腔体的内腔中设有用于二维材料样品在超高真空环境下制备的二维材料操作机构,且超高真空腔体上设有:真空腔门;长焦显微镜;真空泵组,用于对超高真空腔体的内腔抽真空真空计;观察窗;样品架传样杆;样品抓手传样杆。
  • 一种超高真空二维材料制备系统方法
  • [发明专利]一种空间质谱计测量及校准装置-CN202211671588.4有效
  • 葛金国;张虎忠;姚鹏;马卓娅;陈会颖 - 兰州空间技术物理研究所
  • 2022-12-25 - 2023-09-29 - H01J49/00
  • 本申请涉及真空计量技术领域,具体而言,涉及一种空间质谱计测量及校准装置,包括高压气瓶、混合腔室以及超高真空腔室,其中:高压气瓶为多个,多个高压气瓶均与混合腔室连接;超高真空腔室包括依次连接的第一超高真空腔室、第二超高真空腔室以及第三超高真空腔室;混合腔室通过微调阀与第二超高真空腔室连通,通过截止阀与第一超高真空腔室连通;第一超高真空腔室的进口设置有脉冲弹簧阀和电离电极;第二超高真空腔室的进口设置有锥形孔,第二超高真空腔室的内部设置有脉冲电极;第三超高真空腔室内部设置有离子检测器。本申请不仅可以实现单一气体平衡态的校准,还可以模拟空间复杂气体的环境,实现分子束流、离子束流的测量与校准。
  • 一种间质测量校准装置
  • [发明专利]一种小孔径长距离光学兼容真空样品腔-CN201610024358.7在审
  • 徐杨兵;候玉斌;盛志高 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2016-01-13 - 2016-05-04 - G01N21/03
  • 本发明公开一种小孔径长距离光学兼容真空样品腔,包括有自上至下依次设置的低温样品杆、多通道连接装置、超高真空角度可调节装置、超高真空XYZ三维位移平台、上腔体、光学窗口和窗口保护腔体;所述低温样品杆与多通道连接装置真空密封连接,多通道连接装置与超高真空角度可调节装置真空密封连接,超高真空角度可调节装置与超高真空XYZ三维位移平台真空密封连接,超高真空XYZ三维位移平台与上腔体真空密封连接,上腔体与光学窗口真空密封连接,光学窗口与窗口保护腔体连接本发明适合在小口径长距离条件中运用,产生高真空环境,可以供光学探测材料光学性质使用。
  • 一种孔径长距离光学兼容真空样品
  • [实用新型]一种小孔径长距离光学兼容真空样品腔-CN201620035198.1有效
  • 徐杨兵;候玉斌;盛志高 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2016-01-13 - 2016-07-06 - G01N21/03
  • 本实用新型公开一种小孔径长距离光学兼容真空样品腔,包括有自上至下依次设置的低温样品杆、多通道连接装置、超高真空角度可调节装置、超高真空XYZ三维位移平台、上腔体、光学窗口和窗口保护腔体;所述低温样品杆与多通道连接装置真空密封连接,多通道连接装置与超高真空角度可调节装置真空密封连接,超高真空角度可调节装置与超高真空XYZ三维位移平台真空密封连接,超高真空XYZ三维位移平台与上腔体真空密封连接,上腔体与光学窗口真空密封连接,光学窗口与窗口保护腔体连接本实用新型适合在小口径长距离条件中运用,产生高真空环境,可以供光学探测材料光学性质使用。
  • 一种孔径长距离光学兼容真空样品

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